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无干扰测量纳米材料张力新方法问世
陕西航信科工贸有限公司 www.sxhangxin.com | 作者:pro9d9423 | 发布时间: 2009-04-24 | 1595 次浏览 | 分享到:
据《科技日报》报道,德国和西班牙两国科研小组合作,利用红外线纳米近场显微镜发明了一种无干扰检测纳米半导体材料张力的新方法。这一新方法为科学家研究半导体材料的物理性能,以及测量纳米级半导体元器件的性能提供了新的可能。
  据《科技日报》报道,德国和西班牙两国科研小组合作,利用红外线纳米近场显微镜发明了一种无干扰检测纳米半导体材料张力的新方法。这一新方法为科学家研究半导体材料的物理性能,以及测量纳米级半导体元器件的性能提供了新的可能。


  一种无干扰和无接触的测量技术对纳米和半导体技术研究来说一直是个很大的挑战,因此,该成果对纳米级范畴的材料张力特性测量具有重要的意义,利用它可以确定高性能陶瓷物理特性,以及现代半导体元器件的电子特性。